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H_2/C_2H_2系统电子助进热丝化学气相沉积动力学过程研究
时间:2014-12-17 浏览次数:1186次 无忧论文网
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【中文题名】 H_2/C_2H_2系统电子助进热丝化学气相沉积动力学过程研究 【英文题名】 Dynamics of EACVD in H_2/C_2H_2 【中文摘要】 本工作采用蒙特卡罗方法,首次对以H_2/C_2H_2为源气体合成金刚石薄膜的 EACVD过程进行了研究,初步建立了EACVD气相动力学模型。主要结果如下:(1)研究了氢原子的产生及其空间分布随实验条件的变化。给出了气体温度取平均温度及取随空间变化的温度时,偏压为100V、200V、300V的条件下,氢原子的产生;(2)研究了低温淀积金刚石的生长机制,提出了金刚石生长所需的基片温度和基片表面上含碳粒子能量的关系,并且指出:如果要获得高质量的金刚石薄膜,除了含碳物种具有沿着基片表面扩散的能力外,还要求有大量的氢原子存在;(3)提 【英文摘要】 In this paper, we have studied the electron assisted chemical vapor deposition (EACVD) process of diamond films for the first time by using Monte Carlo Simulation. And hydrogen and acetylene mixture is selected as source gases. The model of gas dynamics is suggested here. The main results we have obtained here suggested that: (1) The production of atomic hydrogen and the spatial distribution with the changes of experimental conditions are given. I 【中文关键词】 化学气相沉积. 蒙特卡罗模拟. 漂移速度. 氢分解. 氢原子发射谱线. 电子平均能量. 【英文关键词】 Chemical Vapor Deposition. Monte Carlo Simulation. drift velocity. hydrogen dissociation. atomic hydrogen emission line. the mean energy of electron. 中文摘要 003-004 英文摘要 004-7 第一章 引言 7-10 第二章 蒙特卡罗方法简介 10-13 第三章 EACVD中氢分子的分解及其对金刚石生长的影响 13-43 引言 13-13 基本模型 13-15 第一节 直流电场中氢的分解过程 15-35 3.1.1 概述 15-15 3.1.2 结果与分析 15-54 第二节 低温淀积金刚石过程研究 35-40 第三节 EACVD中用氢原子谱线测定电子平均能量 40-43 第四章 直流电场中电子与乙炔分子的碰撞 43-52 4.1 引言 43-43 4.2 模型 43-43 4.3 结果与分析 43-54 第五章 结束语 52-54 参考文献 54-56
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